GT-1150直接光控光学真空镀膜机
产品描述
GT系列高端光学真空镀膜设备用于制备近紫外波段至近红外波段的窄带滤光膜以及IR-CUT等规整及非规整膜系。
设备特点：
· 腔体尺寸φ1150-φ1800mm
· 高精度直接/间接光学膜厚监控系统
· 高离子流密度射频离子源
· 双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上
· ACS全自动镀膜控制系统实现全自动镀膜历程
· 工件架可选择球伞式、行星式或翻转式
· 排气系统低真空泵组+高真空泵组+深冷
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1150mmx1300mm（H） |
| 工件盘有效镀膜尺寸 | φ1042mm |
| 基板回转速度 | 3r/min-30r/min(可变) |
| 光学膜厚监控 |
直接监控 波长规模：360nm-2400nm 波长精度：＜±1nm 监控器类型：透射 |
| 晶振膜厚仪 | XTC-3+6点晶控 |
| 蒸起源 | E型电子枪2套 |
| 离子源 | GTRF17 |
| 真空排气 | 机械泵+分子泵/低温泵/+深冷捕集泵 |
| 极限真空 | 8.0x10-5Pa |
| 排气时间 | 大气-3.0x10-3Pa/12min/常温空载 |
| 基板温度 | 最高350℃ |
| 空间要求 | 约2.7m（宽）x4.6m（深）x2.7m（高） |
| 电源要求 | 3相4线380v50Hz、约60kw |
| 冷却水要求 | 100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
| 压缩空气 | 0.6MPa |
| 设备重量 | 约4500kg |
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GT-1800光学真空镀膜机
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